鉭靶材

鉭旋轉靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
鉭平面靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。

純度：99.95-99.99%
應用領域：半導體鍍膜行業和光學鍍膜工業。

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